
Àmbit de processos tecnològics
S’exploren tecnologies per optimitzar la fabricació de xips combinant recerca i formació en entorns especialitzats amb aprenentatge automàtic per al disseny de màscares difractives i hologràfiques, integració de làsers díode d’alta potència amb arquitectures que redueixen l’estrès uniaxial i processos de deposició i gravat mitjançant litografia òptica de capes fines avançades
Investigacions en curs
Caracterització Electrònica i Estructural de Capes Primes de ZnO Dopades amb Vanadi mitjançant Espectroscòpia UPS
Maria Escolà Gallinat
Investigador/a de Suport a la Recerca
Desenvolupament d’un sistema innovador de litografia per difracció d’àtoms
Manu Canals i Codina
Investigador/a de Suport a la Recerca
Dispositius Semitransparents de Silici Amorf Hidrogenat per a Aplicacions Optoelectròniques i Fotovoltaiques Avançades
Pau Estarlich Gil
Investigador/a Predoctoral
Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D
Andreu Vega Casanovas
Investigador/a de Suport a la Recerca
Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D
Victor Rubio Jimenez
Investigador/a de Suport a la Recerca
Enginyeria de processos de sala blanca per a la fabricació avançada de dispositius semiconductors
Juan de Dios Castillo Machicado
Investigador/a de Suport a la Recerca
Models Teòric–Numèrics de Precisió per a l’Exploració del Rendiment Relacionat amb l’Encapsulat en Làsers de Semiconductor d’Àrea Ampla
Margarida Facão
Investigador/a de Suport a la Recerca
Quantificació de la filamentació espacial en làsers de semiconductor d’àrea ampla
Oscar Ricardo Mejia Parra
Investigador/a Predoctoral





