Ámbito de procesos tecnológicos

Se exploran tecnologías para optimizar la fabricación de chips combinando investigación y formación en entornos especializados con aprendizaje automático para el diseño de máscaras difractivas y holográficas, integración de láseres diodo de alta potencia con arquitecturas que reducen el estrés uniaxial y procesos de deposición y grabado mediante litografía óptica de capas

Investigaciones en curso

Caracterización Electrónica y Estructural de Capas Primas de ZnO Dopades con Vanadi mediante Espectroscopia UPS

Maria Escolà Gallinat

Maria Escolà Gallinat

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Cuantificación de la filamentación espacial en láseres de semiconductor de área ancha

Oscar Ricardo Mejia Parra

Oscar Ricardo Mejia Parra

Investigador/a Predoctoral

Desarrollo de un sistema innovador de litografía por difracción de átomos

Manu Canals i Codina

Manu Canals i Codina

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D

Victor Rubio Jimenez

Victor Rubio Jimenez

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D

Andreu Vega Casanovas

Andreu Vega Casanovas

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Dispositivos Semitransparentes de Silicio Amorfo Hidrogenado para Aplicaciones Optoelectrónicas y Fotovoltaicas Avanzadas

Pau Estarlich Gil

Pau Estarlich Gil

Investigador/a Predoctoral

Ingeniería de procesos de sala blanca para la fabricación avanzada de dispositivos semiconductores

Juan de Dios Castillo Machicado

Juan de Dios Castillo Machicado

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Modelos Teórico-Numéricos de Precisión para la Exploración del Rendimiento Relacionado con el Encapsulado en Láseres de Semiconductor de Área Ancha

Margarida Facão

Margarida Facão

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Optimización de la interacción química entre el sustrato y la capa de ZnOMx (M = metal) en depósitos obtenidos mediante deposición por capas atómicas (Atomic Layer Deposition, ALD).

Karla Scanda Raymundo Silva

Karla Scanda Raymundo Silva

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Sidecar Project

Despertar vocaciones científicas y tecnológicas en las escuelas e institutos

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