
Ámbito de procesos tecnológicos
Se exploran tecnologías para optimizar la fabricación de chips combinando investigación y formación en entornos especializados con aprendizaje automático para el diseño de máscaras difractivas y holográficas, integración de láseres diodo de alta potencia con arquitecturas que reducen el estrés uniaxial y procesos de deposición y grabado mediante litografía óptica de capas
Investigaciones en curso
Caracterización Electrónica y Estructural de Capas Primas de ZnO Dopades con Vanadi mediante Espectroscopia UPS
Maria Escolà Gallinat
Investigador/a de Apoyo a la Investigación
Cuantificación de la filamentación espacial en láseres de semiconductor de área ancha
Oscar Ricardo Mejia Parra
Investigador/a Predoctoral
Desarrollo de un sistema innovador de litografía por difracción de átomos
Manu Canals i Codina
Investigador/a de Apoyo a la Investigación
Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D
Victor Rubio Jimenez
Investigador/a de Apoyo a la Investigación
Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D
Andreu Vega Casanovas
Investigador/a de Apoyo a la Investigación
Dispositivos Semitransparentes de Silicio Amorfo Hidrogenado para Aplicaciones Optoelectrónicas y Fotovoltaicas Avanzadas
Pau Estarlich Gil
Investigador/a Predoctoral
Ingeniería de procesos de sala blanca para la fabricación avanzada de dispositivos semiconductores
Juan de Dios Castillo Machicado
Investigador/a de Apoyo a la Investigación
Modelos Teórico-Numéricos de Precisión para la Exploración del Rendimiento Relacionado con el Encapsulado en Láseres de Semiconductor de Área Ancha
Margarida Facão
Investigador/a de Apoyo a la Investigación






