Ámbito de procesos tecnológicos

Se exploran tecnologías para optimizar la fabricación de chips combinando investigación y formación en entornos especializados con aprendizaje automático para el diseño de máscaras difractivas y holográficas, integración de láseres diodo de alta potencia con arquitecturas que reducen el estrés uniaxial y procesos de deposición y grabado mediante litografía óptica de capas

Investigaciones en curso

Caracterización basada en la teoría de la información de perfiles heterogéneos de intensidad láser

Felipe Esteban Olivares Zamora

Felipe Esteban Olivares Zamora

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Caracterización Electrónica y Estructural de Capas Primas de ZnO Dopades con Vanadi mediante Espectroscopia UPS

Maria Escolà Gallinat

Maria Escolà Gallinat

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Cuantificación de la filamentación espacial en láseres de semiconductor de área ancha

Oscar Ricardo Mejia Parra

Oscar Ricardo Mejia Parra

Investigador/a Predoctoral

Desarrollo de un sistema innovador de litografía por difracción de átomos

Manu Canals i Codina

Manu Canals i Codina

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D

Victor Rubio Jimenez

Victor Rubio Jimenez

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Diseño de Máscaras de Litografía por Difracción mediante Inteligencia Artificial para Procesos de I+D

Andreu Vega Casanovas

Andreu Vega Casanovas

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Dispositivos Semitransparentes de Silicio Amorfo Hidrogenado para Aplicaciones Optoelectrónicas y Fotovoltaicas Avanzadas

Pau Estarlich Gil

Pau Estarlich Gil

Investigador/a Predoctoral

Ingeniería de procesos de sala blanca para la fabricación avanzada de dispositivos semiconductores

Juan de Dios Castillo Machicado

Juan de Dios Castillo Machicado

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Modelos Teórico-Numéricos de Precisión para la Exploración del Rendimiento Relacionado con el Encapsulado en Láseres de Semiconductor de Área Ancha

Margarida Facão

Margarida Facão

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Optimización de la interacción química entre el sustrato y la capa de ZnOMx (M = metal) en depósitos obtenidos mediante deposición por capas atómicas (Atomic Layer Deposition, ALD).

Karla Scanda Raymundo Silva

Karla Scanda Raymundo Silva

Investigador/a de Apoyo a la Investigación

Sala blanca

Sidecar Project

Despertar vocaciones científicas y tecnológicas en las escuelas e institutos

Últimas noticias

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