Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Descripció

Aquest projecte se centra en el disseny i la simulació de fonts de feixos supersònics, amb un èmfasi especial en l'estudi de la influència dels paràmetres geomètrics i físics sobre el seu rendiment i estabilitat. Mitjançant l'aplicació de tècniques de modelatge avançat i optimització numèrica, el treball busca millorar el control i l'eficiència en els muntatges experimentals. Paral·lelament, el projecte aborda el desenvolupament de models teòrics i computacionals de decoherència quàntica per a sistemes que interactuen amb el seu entorn, integrant la recerca fonamental amb els processos tecnològics de litografia de nova generació.

Context

L'Andreu posseeix una doble titulació en Matemàtiques i Física per la Universitat de Barcelona. La seva experiència inclou una estada al Centre de Recerca Matemàtica durant l'estiu de 2024 i una etapa com a ajudant de recerca al Departament de Física Quàntica i Astrofísica de la Universitat de Barcelona entre l'octubre de 2024 i el maig de 2025. En l'actualitat, cursa el Màster d'Estudis Avançats en Matemàtiques (Física Teòrica) a la Universitat de Cambridge, consolidant una base acadèmica d'excel·lència per a la resolució de problemes complexos en la frontera de la física.

Iniciativa

La seva trajectòria està impulsada per una fascinació profunda cap als marcs teòrics que expliquen els fonaments de la realitat. A través de la seva col·laboració amb Lace Lithography, l'Andreu busca connectar aquests models teòrics amb aplicacions reals al món industrial. El seu objectiu principal és aplicar el seu coneixement per comprendre fenòmens a una escala "profundament petita", aportant rigor analític a la innovació en processos de fabricació i recerca tecnològica.

Investigador/a de Suport a la Recerca

Andreu Vega Casanovas

Graduat en Matemàtiques i Física

Organització

Supervisió

Jordi Cortadella

UPC supervisor

El contingut d'aquest lloc web reflecteix únicament els punts de vista del projecte Catedra Chip Chair UPC.

Desenvolupament d’un sistema innovador de litografia per difracció d’àtoms

Manu Canals i Codina

Investigador/a de Suport a la Recerca

Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Victor Rubio Jimenez

Investigador/a de Suport a la Recerca

Sidecar Project

Despertar vocacions científiques i tecnològiques a les escoles i instituts

Últimes notícies

Llegiu les darreres novetats en recerca i les nostres activitats

This site is registered on wpml.org as a development site. Switch to a production site key to remove this banner.