Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Investigador/a de Suport a la Recerca

Victor Rubio Jimenez

Organització

Supervisió

Jordi Cortadella

UPC supervisor

El contingut d'aquest lloc web reflecteix únicament els punts de vista del projecte Catedra Chip Chair UPC.

Desenvolupament d’un sistema innovador de litografia per difracció d’àtoms

Manu Canals i Codina

Investigador/a de Suport a la Recerca

Disseny de Màscares de Litografia per Difracció mitjançant Intel·ligència Artificial per a Processos d’R+D

Andreu Vega Casanovas

Investigador/a de Suport a la Recerca

Sidecar Project

Despertar vocacions científiques i tecnològiques a les escoles i instituts

Últimes notícies

Llegiu les darreres novetats en recerca i les nostres activitats

This site is registered on wpml.org as a development site. Switch to a production site key to remove this banner.